磁控溅射用难熔金属靶材制作、应用与发展
贾国斌1 ,冯寅楠1 ,贾英2
1. 北京有色金属研究总院
Manufacture, Application and Development of Refractory Metal Target Used on Magnetron Sputtering
摘要 随着磁控溅射技术应用日益广泛，难熔金属靶材需求不断增大。本文就难熔金属靶材应用、制备及发展进行总结和探讨，制作过程中，分析致密度、纯度、晶粒尺寸及结晶取向对靶材性能的影响，并对难熔金属靶材的发展趋势进行展望。
关键词 ：
磁控溅射 ,
高纯难熔金属 ,
靶材
Abstract ：With the application of magnetron sputtering increasing, requirement of refractory metal target kept expanding. Application, preparation and development of refactory metal target was summarized and discussed in this paper. Influence of the density, the purity, the grain size and the crystal orientation to the target was analyzed. Development trend of the target was also forecasted.
Key words ：
magnetron sputtering
high purity refractory metal
target
收稿日期: 2015-09-08
出版日期: 2017-01-09
通讯作者:
贾国斌
E-mail: jgb7120118@163.com
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2016, Vol. 23 
