溅射功率对直流磁控溅射微机电制造用Zr51Al11Ni4Cu34非晶 合金薄膜特性的影响

葛洪央，王永乐

粉末冶金工业 ›› 2020, Vol. 30 ›› Issue (06) : 65-68.

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粉末冶金工业 ›› 2020, Vol. 30 ›› Issue (06) : 65-68. DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1006-6543.20200058
研究与开发

溅射功率对直流磁控溅射微机电制造用Zr51Al11Ni4Cu34非晶 合金薄膜特性的影响

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Effect of sputtering power on the properties of Zr51Al11Ni4Cu34 amorphous alloy films for medical device by DC magnetron sputtering

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