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| 湿法球磨工艺对CeO2粒度分布及抛光性能的影响 |
| 张笑寒1,陈向晖2,杨军1,赵东3,裴文利4,徐民1 |
1. 东北大学
2. 德米特（苏州）电子环保材料有限公司
3. 东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室
4. 东北大学材料科学与工程学院材料各向异性与织构教育部重点实验室
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摘要 抛光粉粒度与其抛光性能有密切关系，然而粒度相同的抛光粉，粒度分布的不同对其抛光性能也具有重要影响。为了探究粒度分布对抛光性能的影响，以粒径较大的CeO2粉为原料，使用不同球磨设备对CeO2粉进行细化，设置不同的球磨工艺参数并添加不同的助剂，获得中位粒径D50=1 μm，具有不同粒度分布的CeO2料液，添加一定量分散剂调配成固含量10 %的抛光液。用9B双面抛光机对K9玻璃进行抛光，记录玻璃单位时间质量减少量，并利用原子力显微镜测量抛光表面粗糙度。结果表明，设置不同的球磨工艺可以对CeO2粒径分布进行调控，CeO2粒度分布较窄时，具有较高的抛光去除率MMR，粒度分布适中时，兼具抛光效率与表面质量。使用行星式搅拌球磨机，选用直径为3 mm的磨珠、球料比为5:1，抛光机转速为30 rpm，浆液流速为30 rpm、并在球磨介质中添加质量比为0.1%的聚丙烯酸钠作为助剂时，可获得最低的表面粗糙度Ra=0.849 nm。
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| 关键词 ：
CeO2,
抛光,
球磨,
粒度分布
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收稿日期: 2020-11-17
出版日期: 2021-10-12
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通讯作者:
裴文利
E-mail: peiwl@atm.neu.edu.cn
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2021, Vol. 28 