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| CVD钨铼合金的制备及其相关应用 |
| 解亚娟 |
| 北京理工大学 |
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| Preparation and application of CVD tungsten-rhenium alloy |
| Ya-Juan XIE |
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摘要 微电子技术的发展促使钨铼合金向高纯、高致密、高均匀化方向发展，化学气相沉积（CVD）W-Re合金在纯度、致密度方面有着绝对的优势，探索CVD W-Re合金的制备工艺对制备均匀的高纯高致密W-Re合金有重要意义。本文从CVD钨铼合金共沉积系统出发，介绍了CVD钨铼共沉积体系中存在的物质及可能发生的基元反应；阐述了不同限速步骤下钨铼合金的组织和性能演变，并强调了铼的气相传质控制下，钨铼合金成分对气相组成和沉积温度的敏感性；解释了高铼含量和低铼含量的钨铼合金的晶体生长形貌和生长机制；结合W-Re二元平衡相图总结了CVD W-Re合金的组成、性能和应用。通过以上对CVD W-Re合金系统的介绍，为高纯、高致密且性能均匀的钨铼合金的制备和应用市场的开发提供了借鉴。
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收稿日期: 2020-03-02
出版日期: 2020-12-22
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通讯作者:
解亚娟
E-mail: 18810000663@163.com
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2020, Vol. 27 